مطالب پربازدید

1404/02/21 - 07:21- تروریسم سایبری

پیشنهاد رئیس سابق اداره ملی سایبری رژیم صهیونیستی درمورد ایران

رئیس سابق اداره سایبری ملی رژیم صهیونیستی گفت که این رژیم باید یک پیمان دفاع سایبری علیه ایران تشکیل دهد.

1404/01/16 - 14:04- جرم سایبری

حمله سایبری آژانس‌های اطلاعاتی آمریکا علیه کاربران موبایل

یک گزارش منتشرشده توسط یک ائتلاف صنعتی چینی، فعالیت‌های نظارتی و سرقت داده‌ای آژانس‌های اطلاعاتی آمریکا را که کاربران جهانی تلفن‌های هوشمند و سامانه‌های ارتباطی را هدف قرار می‌دهد، افشا کرد.

1404/01/26 - 08:33- آمریکا

برگزاری رزمایش پاسخ هماهنگ به حمله سایبری توسط اعضای ناتو

متحدان ناتو در یک رزمایش در ماه آوریل سال جاری، پاسخ هماهنگ به حمله سایبری را تمرین کردند.

زینب سلیمانی

انتشار شده در تاریخ 1404/01/25 - 09:24

انقلابی در فناوری ساخت تراشه در راه است؛ مدیرعامل سابق اینتل به استارتاپ xLight پیوست

پت گلسینگر، به تازگی اعلام کرده است که این شرکت در حال توسعه یک منبع نور جدید برای سیستم‌های لیتوگرافی فرابنفش (EUV) است که از شتاب‌دهنده ذرات برای تولید نور استفاده می‌کند.

به گزارش کارگروه فناوری اطلاعات سایبربان ؛ پت گلسینگر، مدیرعامل سابق اینتل و رئیس اجرایی کنونی شرکت xLight، که یک استارتاپ نوآور در زمینه فناوری لیزر الکترون آزاد (FEL) است، به تازگی اعلام کرده است که این شرکت در حال توسعه یک منبع نور جدید برای سیستم‌های لیتوگرافی فرابنفش (EUV) است که از شتاب‌دهنده ذرات برای تولید نور استفاده می‌کند.

این فناوری جدید در صنعت تولید تراشه‌ها می‌تواند انقلابی ایجاد کند. xLight قصد دارد تا سال 2028 این فناوری را به مرحله تجاری برساند و از آن برای تولید تراشه‌های با وضوح بالا استفاده کند.

در حال حاضر، سیستم‌های لیتوگرافی EUV از نور با طول موج 13.5 نانومتر برای تولید الگوهای مدار روی ویفرهای سیلیکونی استفاده می‌کنند و این تکنولوژی به شدت در صنعت نیمه‌هادی‌ها برای تولید تراشه‌های پیشرفته به کار می‌رود. تا به امروز تنها ASML توانسته است سیستم‌های EUV را توسعه دهد، اما xLight با معرفی منبع LPP جدید خود که از شتاب‌دهنده‌های ذره‌ای برای تولید نور استفاده می‌کند، قصد دارد رقابتی جدی برای ASML ایجاد کند.

طبق گفته گلسینگر، این منبع جدید LPP از قدرت چهار برابر بیشتر نسبت به سیستم‌های فعلی برخوردار است. به گفته او، این فناوری قادر است هزینه‌های تولید هر تراشه را حدود 50 درصد کاهش دهد و همچنین هزینه‌های سرمایه‌گذاری و عملیاتی را سه برابر کاهش دهد. این پیشرفت می‌تواند به‌ویژه برای شرکت‌هایی که در حال حاضر در صنعت تولید نیمه‌هادی‌ها فعال هستند، یک فرصت بزرگ به شمار آید.

گلسینگر همچنین اعلام کرده است که xLight قصد ندارد سیستم‌های EUV موجود ASML را جایگزین کند، بلکه این منبع LPP جدید قرار است به سیستم‌های اسکنر ASML متصل شود. این موضوع به معنای آن است که xLight می‌تواند هزینه‌های تولید تراشه‌ها را کاهش دهد و در عین حال از سیستم‌های اسکنر ASML که در حال حاضر در کارخانه‌های تولیدی استفاده می‌شوند، بهره‌برداری کند.

در حالی که این فناوری جدید هنوز در مراحل اولیه خود قرار دارد، شتاب‌دهنده‌های ذره‌ای به دلیل ابعاد بزرگ خود ممکن است در کارخانه‌های فعلی قابل استفاده نباشند. با این حال، برای نسل جدید کارخانه‌ها که طراحی‌های متفاوتی دارند، این فناوری می‌تواند کاربردهای زیادی پیدا کند. این تکنولوژی نه تنها در صنعت نیمه‌هادی‌ها بلکه در زمینه‌های دیگری مانند امنیت زیست‌فناوری و حتی تصویربرداری پزشکی نیز می‌تواند نقش ایفا کند.

در مجموع، به نظر می‌رسد که آینده فناوری لیزر الکترون آزاد (FEL) در صنعت نیمه‌هادی‌ها و فراتر از آن به شدت امیدوارکننده است. این فناوری می‌تواند به تغییرات عمده در فرآیند تولید تراشه‌ها منجر شود و به‌ویژه در کاهش هزینه‌ها و افزایش کارایی در صنعت نیمه‌هادی‌ها نقش حیاتی ایفا کند.

با توجه به اینکه ASML در حال تلاش برای گسترش توان منابع EUV خود است، xLight در حال رقابت با این شرکت بزرگ است تا منبع LPP خود را به یک استاندارد صنعتی تبدیل کند. این تغییرات می‌توانند نقشی مهم در آینده تولید تراشه‌ها ایفا کنند و به پیشرفت‌های بیشتری در این زمینه منجر شوند.