به گزارش کارگروه بینالملل سایبربان، شرکت ایاسامال (ASML) اعلام کرد که اینتل تصمیم گرفته است از یک دستگاه پیشرفته ASML برای تولید برخی از تراشههای لپتاپ پرچمدار پَنتر لِیک (Panther Lake) خود استفاده کند.
به دنبال آزمایشهایی که از سال ۲۰۲۴ آغاز شد، اینتل شروع به استفاده از دستگاههای نسل بعدی ASML با دیافراگم عددی بالا، های اِن اِی (High NA) و اشعه ماورای بنفش شدید (EUV) کرده است که الگوهای مدار را روی میکروچیپها چاپ میکنند تا به تولید بخشی از پردازندههای Panther Lake خود کمک کند.
این صنعت در مورد اینکه در چه مرحلهای از نظر اقتصادی شروع به استفاده از ابزارهای High NA منطقی است، بحث کرده است. این ابزارها احتمالاً در آینده توسط سازندگان تراشه موردنیاز خواهند بود، زیرا آنها همچنان به کوچککردن ویژگیهای اتمی تشکیلدهنده تراشهها ادامه میدهند.
تجهیزات High NA حدود ۴۰۰ میلیون دلار یا دوبرابر دستگاه استاندارد EUV هزینه دارد. همچنین واردکردن این ابزار به فرایندهای تولید از نظر فنی چالشبرانگیز است.
اینتل از ابزار High NA برای لایههای خاصی از تراشه استفاده میکند که به اینتل و ASML در جمعآوری دادهها و بهینهسازی تجهیزات کمک خواهد کرد.
این شرکت از فرایند تولید A18 خود برای ساخت تراشههای Panther Lake و در حال حاضر از دستگاههای لیتوگرافی EUV استاندارد ASML برای انجام این کار استفاده میکند. لیتوگرافی فرایند استفاده از نور برای ترسیم الگوهای پیچیدهای است که مدارهای روی تراشه را تشکیل میدهند.
اینتل اولین ابزار High NA را در سال ۲۰۲۴ در سایت تحقیقوتوسعه خود در هیلزبورو، اورگان دریافت کرد، جایی که این شرکت تکنیکها و فناوریهای جدید تولید خود را توسعه میدهد.
